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本发明构思提供了一种基板处理设备。所述种基板处理设备包括：工艺腔室，所述工艺腔室设置有反应空间并且具有暴露于所述反应空间的至少一个绝缘构件；基板支撑构件，所述基板支撑构件用于将基板支撑在所述反应空间处；气体供应构件，所述气体供应构件用于选择...
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