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本实用新型公开了一种半导体离子注入设备石墨棒部品的喷砂装置,包括第一支架,所述第一支架的一侧均活动安装有第二支架,所述第一支架的表面均固定安装有连接杆,所述第一支架和第二支架的顶端表面均设有支撑槽,所述支撑槽的内部均活动安装有石墨棒。本实用...该专利属于广州富乐德科技发展有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广州富乐德科技发展有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种半导体离子注入设备石墨棒部品的喷砂装置,包括第一支架,所述第一支架的一侧均活动安装有第二支架,所述第一支架的表面均固定安装有连接杆,所述第一支架和第二支架的顶端表面均设有支撑槽,所述支撑槽的内部均活动安装有石墨棒。本实用...