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本实用新型适用于防水处理设备技术领域，提供了一种用于卷材镀膜的PEVCD设备。舱体、加药装置以及真空泵，所述加药装置通过管道与所述舱体的顶部和底部相连，所述真空泵与所述舱体通过管道相连通，还包括设置于舱体内部的等离子射频结构，所述舱体内部设...
该专利属于深圳市技高美纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市技高美纳米科技有限公司授权不得商用。

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