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本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。基板处理装置包括：腔室，其提供处理空间；支承单元，其在处理空间处支承基板；气体供应单元，其被配置为将气体引入到处理空间；等离子体源，其被配置为提供用于将引入到处理空间的气体激发成等离子体的能...
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