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公开一种用于在热处理腔室内加热基板的设备。该设备包括腔室主体、气体进口、气体出口、上窗、下窗、基板支撑件和上部加热装置。上部加热装置是激光加热装置，并且包括一个或多个激光组件。激光组件包括光源、冷却板、光纤和照射窗。照射窗。照射窗。
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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