温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种约束环、等离子处理装置及其排气控制方法，约束环环绕设置于等离子处理装置的反应腔内的基座外围与反应腔的侧壁之间，约束环包含形成一环形结构的至少一个环状组件，环状组件包含具有多个气体通道的主体部分，以及用于调节气体通道高度的高度调节装置。驱...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。