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本实用新型涉及半导体掩膜版制造技术领域，公开了一种掩膜版脱膜清洗装置，包括：脱模槽，所述脱模槽内连接有用于支撑产品的支架；液体输送单元，用于向支架上的产品喷洒脱模液；及驱动单元，所述驱动单元包括电机和转盘，所述电机的输出轴与所述转盘连接，所...
该专利属于成都路维光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都路维光电有限公司授权不得商用。

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