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本发明涉及抗蚀剂膜的形成方法及抗蚀剂膜，所述抗蚀剂膜通过上述抗蚀剂膜的形成方法形成。上述抗蚀剂膜的形成方法使用了在常温下高粘度且因加热而上述粘度降低的抗蚀剂，上述抗蚀剂膜的形成方法能够形成膜厚为300μm以上且面内膜厚变动在10％以内的抗蚀...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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