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本实用新型涉及一种半导体晶圆清洗系统，包括清洗槽、水浴槽、超声震板、U形槽、第一进水管道、第二进水管道、第一输液机构、第二输液机构、外循环机构，第一输液机构包括第一计量桶、第一计量泵、第一排液阀，第二输液机构包括第二计量桶、第三排液阀，外循...
该专利属于大正华嘉科技（香河）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大正华嘉科技（香河）有限公司授权不得商用。

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