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本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种吸盘组件、曝光装置及光刻系统。吸盘组件包括：吸盘，其基底吸附面具有若干个与吸盘同心设置的基底吸附区，每个基底吸附区均包括主吸附区，至少最外侧的基底吸附区包括位于主吸附区外侧的边缘吸附区；每个主吸附区的边...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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