温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种减少湿法刻蚀清洗剂用量的系统，包括：供液单元，用于分别向第一清洁腔室和第二清洁腔室内通入原液；回收装置，用于回收处理所述第二清洁腔室内排出的废液，获得满足预设要求的待配置溶液，并将所述待配置溶液作为原液通入至所述第一清洁腔室...该专利属于晋芯电子制造（山西）有限公司晋芯先进技术研究院（山西）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晋芯电子制造（山西）有限公司晋芯先进技术研究院（山西）有限公司授权不得商用。