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苏州凌存科技有限公司
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磁性多层膜结构及磁性器件制造技术
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文档序号:35931705
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本发明公开了一种磁性多层膜结构,包括:形成在缓冲层或种子层上的第一多层结构;所述第一多层结构包括顺序布置的:参考层、非磁性中间层、自由层和耦合层;其中,耦合层和自由层通过界面的反铁磁或铁磁耦合,耦合层和自由层的磁矩方向反平行或平行排列,非磁...
该专利属于苏州凌存科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州凌存科技有限公司授权不得商用。
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