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本公开涉及一种制造薄膜装置(100)的方法。将多级纳米压印光刻模板(20)转移到薄膜堆叠部中，该薄膜堆叠部包括电极层(11)和对电极层进行覆盖的遮盖牺牲层(12)。对模板进行转移，从而对装置(100)进行图案化，并且使电极的预定的绝缘区域(...该专利属于荷兰应用自然科学研究组织TNO所有，仅供学习研究参考，未经过荷兰应用自然科学研究组织TNO授权不得商用。
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本公开涉及一种制造薄膜装置(100)的方法。将多级纳米压印光刻模板(20)转移到薄膜堆叠部中，该薄膜堆叠部包括电极层(11)和对电极层进行覆盖的遮盖牺牲层(12)。对模板进行转移，从而对装置(100)进行图案化，并且使电极的预定的绝缘区域(...