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QLED器件及其制备方法技术
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文档序号:35877331
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本发明涉及QLED器件技术领域,具体而言,涉及一种QLED器件及其制备方法。QLED器件,包括依次层叠设置的ITO玻璃衬底、空穴注入层、空穴传输层、发光层、稀有轻金属碳酸盐层、电子传输层和阴极层。本发明的QLED器件在发光层和电子传输层中间...
该专利属于合肥福纳科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过合肥福纳科技有限公司授权不得商用。
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