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本发明涉及一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制造方法,包括透明基材层,所述的透明基材层具有第一表面和第二表面,该制造方法:使滚轮的轮面形成凹凸不平的凹点阵列光学微结构;在透明基材层的第一表面和/或第二表面通过滚压涂布方式涂布纳米UV色浆胶水,...该专利属于东莞市钰晟电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过东莞市钰晟电子科技有限公司授权不得商用。
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