一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制造方法，包括透明基材层，所述的透明基材层具有第一表面和第二表面，该制造方法：使滚轮的轮面形成凹凸不平的凹点阵列光学微结构；在透明基材层的第一表面和/或第二表面通过滚压涂布方式涂布纳米UV色浆胶水，通过滚压使透明基材层的第一表面和第二表面形成具有纳米级凸点阵列光学微结构,所述的纳米级凸点阵列光学微结构具有若干凸点，凸点半径为R，R为10微米至1000微米，所述的纳米级凸点阵列的凸点底面直径为D，D为10微米至1000微米，紫外固化后在第一表面在形成扩散层，在第二表面形成抗摩擦层，最终制得形成抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜，本发明专利技术扩散膜具有较高的雾度和遮蔽性能。能。能。

【技术实现步骤摘要】
一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制造方法


[0001]本专利技术涉及液晶显示
，尤指一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制造方法。

技术介绍

[0002]扩散膜是液晶显示器中不可缺少的光学元件，位于背光模组中，在传统的扩散膜制作工艺中，通常用散射的颗粒状物混合于粘接剂中，在透明基膜上涂布混合的粘接剂，烘烤制得扩散膜，通过扩散粒子达到分散光线的目的，另扩散膜在裁切或包装或运输过程中，容易被刮擦或背光模组的不同膜间摩擦，导致扩散膜受到损坏，或是粒子脱落而损坏扩散膜的品质，或是粒子小，或不抗压，造成背光模组存在背光白点、白班、黑点、黑斑等等。

技术实现思路

[0003]为解决上述问题，本专利技术提供一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制造方法。
[0004]为实现上述目的，本专利技术采用如下的技术方案是一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制造方法，包括透明基材层，所述的透明基材层具有相对的第一表面和第二表面，该制造方法包括如下步骤：
[0005]S1，制作母版，将滚轮进行喷砂粗化处理或将滚轮经精密CNC或镭射机的微雕处理，使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗压、耐摩擦、高遮蔽扩散膜的制造方法，包括透明基材层，所述的透明基材层具有相对的第一表面和第二表面，其特征在于，该制造方法包括如下步骤：S1，制作母版，将滚轮进行喷砂粗化处理或将滚轮经精密CNC或镭射机的微雕处理，使滚轮的轮面形成凹凸不平的凹点阵列光学微结构；S2，配置涂料，预先配置好UV树脂胶水和/或纳米UV色浆胶水；S3，扩散层滚压涂布，将滚轮装入添加了纳米UV色浆胶水的涂布机上，将S2配置好的纳米UV色浆胶水涂布在透明基材层的第一表面，通过滚压使透明基材层的第一表面形成具有纳米级凸点阵列光学微结构,所述的纳米级凸点阵列光学微结构具有若干凸点，凸点半径为R，R为10微米至1000微米，所述的纳米级凸点阵列的凸点底面直径为D，D为10微米至1000微米；S4，扩散层紫外固化，将S3涂布好的透明基材层第一表面进行紫外固化处理，形成扩散层；S5，抗摩擦层滚压涂布，将S2配置好的纳米UV色浆胶水涂布在透明基材层的第二表面，使透明基材层的第二表面形成具有纳米级凸点阵列光学微结构,所述的纳米级凸点阵列光学微结构具有若干凸点，凸点半径为R，R为10微米至1000微米，所述的纳米级凸点阵列的凸点底面直径为D，D为10微米至1000微米；S6,抗摩擦层紫外固化，将S5涂布好的透明基材层第二表面进行紫外固化处理，形成抗摩擦层；S7，将成品进行检测，满足检测要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：伯红权，
申请(专利权)人：东莞市钰晟电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：