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本发明涉及光刻工艺开发技术领域，具体涉及一种绘制光刻工艺窗口的方法，获取特定特征尺寸图形在不同离焦量和不同曝光剂量下的曝光结果及约束条件；基于所述曝光结果和所述约束条件绘制两条泊松曲线；判断两条所述泊松曲线和所述泊松曲线的首尾点构成闭合区域...
该专利属于南京诚芯集成电路技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京诚芯集成电路技术研究院有限公司授权不得商用。

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