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本公开提供了一种使用离子束刻蚀加工金属纳米结构的方法，该方法包括：S1，将待加工样品置于离子束刻蚀设备中，待加工样品自下而上依次包括衬底、金属膜层和光刻胶纳米图形层，光刻胶纳米图形层暴露出金属膜层的刻蚀区；S2，使用离子束刻蚀金属膜层的刻蚀...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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