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本实用新型公开了一种可提高化铜沉积速率的沉铜装置,包括机箱,所述机箱一侧固定设有沉铜池,所述沉铜池底部对称固定设有万向轮,所述沉铜池内腔底部从左到右依次固定设有温度传感器、搅拌机构、电加热器,所述沉铜池前侧表面固定设有温控器,所述机箱内腔设...该专利属于信丰正天伟电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过信丰正天伟电子科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种可提高化铜沉积速率的沉铜装置,包括机箱,所述机箱一侧固定设有沉铜池,所述沉铜池底部对称固定设有万向轮,所述沉铜池内腔底部从左到右依次固定设有温度传感器、搅拌机构、电加热器,所述沉铜池前侧表面固定设有温控器,所述机箱内腔设...