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本公开涉及一种聚酯离型膜及其制备方法。根据本公开，提供：一种由非硅氧烷类材料制成并且具有优异的剥离性能和低摩擦电的聚酯离型膜；和所述聚酯离型膜的制备方法。所述聚酯离型膜可以适当地用作制备薄偏光板中的剥离用基底膜。用基底膜。
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该专利属于可隆工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过可隆工业株式会社授权不得商用。

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