温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供了一种用于上下料的定位装置及光刻设备，涉及光刻技术领域，为解决目前硅片交接过程中，定位精度较低的问题而设计。该用于上下料的定位装置包括基座、第一定位结构和第二定位结构，基座包括座体和环绕座体设置的框体，框体与座体局部固定连接，...
该专利属于北京华卓精科科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京华卓精科科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。