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电子设备制造用水溶液、抗蚀剂图案的制造方法和器件的制造方法技术
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文档序号:35731306
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提供一种能够防止图案塌陷或抑制抗蚀剂图案宽度不均匀的电子设备制造用水溶液。[解决方案]一种电子设备制造用水溶液,包含烷基羧酸化合物(A)和溶剂(B):其中,烷基羧酸化合物(A)由式(a)表示:A1‑
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该专利属于默克专利有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过默克专利有限公司授权不得商用。
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