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本发明涉及一种超高阶的灰度光刻方法及其设备，包括以下步骤：步骤1：将紫外光和指引光分别通过第一准直透镜模组和第二准直透镜模；步骤2：通过二向色镜后进行合束；步骤3：通过第三准直透镜组；步骤4：通过第一分光片，将一部分光透射到第一光掩模板上；...
该专利属于赫智科技(苏州)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过赫智科技(苏州)有限公司授权不得商用。

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