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上海凸版光掩模有限公司
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用于掩模版多线宽均匀性检测的图形结构制造技术
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文档序号:35666248
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本实用新型提供一种用于掩模版多线宽均匀性检测的图形结构,其在图形掩模层中设置检测单元,检测单元包括相邻排布的遮光区域和透光区域,遮光区域内设置有透光图形,透光区域内设置有遮光图形,透光图形包括线宽依次递增的透光矩形以形成透光宝塔图形,遮光图...
该专利属于上海凸版光掩模有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海凸版光掩模有限公司授权不得商用。
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