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本实用新型提供一种用于掩模版多线宽均匀性检测的图形结构，其在图形掩模层中设置检测单元，检测单元包括相邻排布的遮光区域和透光区域，遮光区域内设置有透光图形，透光区域内设置有遮光图形，透光图形包括线宽依次递增的透光矩形以形成透光宝塔图形，遮光图...
该专利属于上海凸版光掩模有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海凸版光掩模有限公司授权不得商用。

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