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本申请公开了一种双压套式密封结构及真空回流焊炉,包括真空舱壁,真空舱壁上贯穿设置有导管,导管上套设有两组分别位于真空舱壁的内侧和外侧的密封套组件,两组密封套组件之间具有间距,且两组密封套组件、导管以及真空舱壁之间围成密封间隙,真空舱壁内开设...该专利属于成都共益缘真空设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都共益缘真空设备有限公司授权不得商用。
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本申请公开了一种双压套式密封结构及真空回流焊炉,包括真空舱壁,真空舱壁上贯穿设置有导管,导管上套设有两组分别位于真空舱壁的内侧和外侧的密封套组件,两组密封套组件之间具有间距,且两组密封套组件、导管以及真空舱壁之间围成密封间隙,真空舱壁内开设...