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本公开的实施例涉及衬底处理装置及方法。衬底处理装置(100)包括反应室(20)，具有密封反应室(20)的内部体积以用于衬底处理的上部(20a)和下部(20b)，下部(20b)能够与上部(20a)间隔开以在它们之间形成衬底装载间隙；衬底支撑系...
该专利属于皮考逊公司所有，仅供学习研究参考，未经过皮考逊公司授权不得商用。

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