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本发明公开了一种用于SiC外延薄膜制备的CVD设备气路系统，涉及CVD设备技术领域，包括气路、第一气体电磁阀、质量流量计、第二气体电磁阀、真空反应腔、气压检测器、混气装置、信息采集模块、数据收集模块、分析执行模块、数据处理模块和元件执行模块...
该专利属于江苏汉印机电科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏汉印机电科技股份有限公司授权不得商用。

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