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本申请提供一种光刻版框架及光刻版框架制造方法，涉及半导体制造技术领域。本发明基于不同光刻机的不同视场，引入子框架单元概念，根据各个不同的光刻机视场分别在横向和纵向可排布的芯粒数量的最大公约数确定最小框架单元的尺寸，再将子框架单元通过在横向和...
该专利属于吉林华微电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过吉林华微电子股份有限公司授权不得商用。

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