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本发明提供了一种曝光辅助图形的优化方法。利用辅助图形的历史数据建立光学验证模型，并通过该光学验证模型对当前添加的辅助图形进行验证，以判断出当前的辅助图形的曝出概率，实现更高精度、更高效率的添加辅助图形，并能够更高效的完成后续的OPC修正过程...
该专利属于福建省晋华集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建省晋华集成电路有限公司授权不得商用。

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