下载半导体结构及其形成方法的技术资料

文档序号:35362022

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本发明公开了一种半导体结构及其形成方法。半导体结构包括:第一载板,具有位于第一表面上的第一导电柱;第二载板,具有与第一表面相对的第二表面,第二表面上具有第二导电柱;其中,第一导电柱的部分侧壁与第二导电柱的部分侧壁相对,并且通过化镀层与第二导...
该专利属于日月光半导体制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过日月光半导体制造股份有限公司授权不得商用。

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