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本实用新型公开了一种连续进样坩埚清洗装置，包括：平台、用于放置坩埚的操作工位、用于对坩埚进行吸尘操作的吸尘装置以及用于对坩埚进行清洗操作的清洗装置，平台上设有至少两个操作工位，吸尘装置和清洗装置均设于平台的上方，吸尘装置和清洗装置均可靠近或...
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