温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本申请属于功率器件技术领域,提供了一种凸形碳化硅JBS器件及其制备方法、芯片,在N型外延层的正面形成多个侧壁设有第一氮化硅层的第二凹槽,然后在多晶硅掩膜层以及第一氮化硅层的掩蔽下,对N型外延层进行P型掺杂离子注入,以在N型外延层的正面形成多...该专利属于深圳芯能半导体技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳芯能半导体技术有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本申请属于功率器件技术领域,提供了一种凸形碳化硅JBS器件及其制备方法、芯片,在N型外延层的正面形成多个侧壁设有第一氮化硅层的第二凹槽,然后在多晶硅掩膜层以及第一氮化硅层的掩蔽下,对N型外延层进行P型掺杂离子注入,以在N型外延层的正面形成多...