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本实用新型提供一种基板清洗机构，包括：第一清洗槽和第二清洗槽；滚轴传送带，滚轴传送带穿过第一清洗槽和第二清洗槽，滚轴传送带适于带动放置于滚轴传送带的基板移动经过第一清洗槽和第二清洗槽；第一清洗槽中设置有第一清洗液，第一清洗液的液面高于滚轴传...
该专利属于苏州清越光电科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州清越光电科技股份有限公司授权不得商用。

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