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本申请实施例提供了一种MEMS器件晶圆级封装方法及MEMS器件;其中,方法包括:提供第一晶圆;在第一晶圆中形成第一通孔,第一通孔贯穿第一导电材料层和第一绝缘层并暴露出第一基底;在第一晶圆的第一导电材料层所在的一侧上键合第二晶圆;在第二晶圆中...该专利属于绍兴中芯集成电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过绍兴中芯集成电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本申请实施例提供了一种MEMS器件晶圆级封装方法及MEMS器件;其中,方法包括:提供第一晶圆;在第一晶圆中形成第一通孔,第一通孔贯穿第一导电材料层和第一绝缘层并暴露出第一基底;在第一晶圆的第一导电材料层所在的一侧上键合第二晶圆;在第二晶圆中...