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本实用新型涉及引弧技术领域，且公开了一种正压和真空环境下可移动耐高压引弧装置，包括底座和竖向架，所述竖向架固定连接于底座的顶部，所述底座的顶部设置有移动机构，所述移动机构的顶部固定连接有可对工件进行固定的夹持机构，所述底座的顶部固定连接有可...
该专利属于沈阳精创真空技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳精创真空技术有限公司授权不得商用。

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