温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及半导体电子技术领域，具体涉及一种晶片蒸镀前清洁的方法，包括如下步骤：步骤二：等离子打胶机对其腔体进行两次的电离工序；步骤三：将步骤二得到的半成品晶片放入离子水中，对离子水中充氮气使离子水中鼓泡；步骤四：将步骤三得到的半成品晶片放入...
该专利属于福建兆元光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建兆元光电有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。