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本发明公开了一种磁控溅射靶材的磁场设计方法，将磁铁分为内、中、外三层结构，并分别进行充磁，根据不同的充磁方向，使磁场水平分量的最小处靠近靶材末端位置；由于靶材刻蚀槽产生在平行于靶面磁场最强处周围，而且磁场水平分量越大，刻蚀越快；通过本方法可...
该专利属于苏州德耐纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州德耐纳米科技有限公司授权不得商用。

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