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本发明属于金刚石基薄膜电路技术领域，具体涉及一种金刚石基薄膜电路制作方法及其电路。该方法包括：选定底层硅材料；在底层硅材料的上方制作金刚石膜；对金刚石膜的上表面进行清洗；在金刚石膜的上表面镀膜，形成膜层，且膜层上表面为金层；在膜层的上表面涂...
该专利属于中电科思仪科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中电科思仪科技股份有限公司授权不得商用。

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