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本实用新型公开了一种改善解胶效果的治具，包括底座、可供紫外光透过的盖板以及固定结构，底座上设置有安置槽以及通气孔，底座内还设置有相互连通的安置腔和限位腔；盖板与安置槽卡接，盖板与底座之间形成有用于容纳晶圆片的安置腔，且盖板与安置槽之间的间距...
该专利属于苏州苏纳光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州苏纳光电有限公司授权不得商用。

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