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本发明提供了一种喷淋头及真空处理设备，该喷淋头包括喷淋主体，喷淋主体具有相互独立的第一排气通道和第二排气通道；所述喷淋主体包括相对设置的第一喷淋层和第二喷淋层，所述第一喷淋层和所述第二喷淋层之间形成过渡腔室，所述第一排气通道设置于所述第一喷...
该专利属于拓荆科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技（上海）有限公司授权不得商用。

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