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本实用新型涉及外延生长技术领域,公开了一种外延石墨基座,包括基座本体以及多个载台;载台包括设置在载台内的多个控温凸台、设置在载台边缘处的多个载台台阶,载台具有一底面;多个载台台阶用于放置衬底,衬底面向载台的一面与底面之间的空间为隔温腔体;在...该专利属于深圳市志橙半导体材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市志橙半导体材料有限公司授权不得商用。
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本实用新型涉及外延生长技术领域,公开了一种外延石墨基座,包括基座本体以及多个载台;载台包括设置在载台内的多个控温凸台、设置在载台边缘处的多个载台台阶,载台具有一底面;多个载台台阶用于放置衬底,衬底面向载台的一面与底面之间的空间为隔温腔体;在...