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一种基于氟硼二吡咯结构的Ⅰ型光敏剂及其制备方法和应用技术
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下载一种基于氟硼二吡咯结构的Ⅰ型光敏剂及其制备方法和应用的技术资料
文档序号:34905259
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本发明公开一种基于氟硼二吡咯结构的Ⅰ型光敏剂,具有式(Ⅰ)所示结构,是氟硼二吡咯BODIPY类有机小分子染料,不含有重原子,具有良好的平面结构,吸收光谱明显红移,在光疗窗口内具有很强的光捕获能力。该光敏剂在光照条件下,可以过I型光动力途径敏...
该专利属于北京师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京师范大学授权不得商用。
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