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本实用新型涉及GaN制备相关技术领域，且公开了一种用于气体沉积工艺的自公转基座，包括设备安装台和驱动机构，所述设备安装台的顶部安装有安装基座，安装基座的上方设置有自转基座，驱动机构的输出轴贯穿设备安装台和安装基座并与自转基座的底部相连接。该...
该专利属于无锡吴越半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡吴越半导体有限公司授权不得商用。

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