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一种通过图案化辐射束曝光衬底的方法，包括：提供辐射束；通过可单独控制元件阵列赋予辐射束；通过绕倾斜轴线在不同位置之间倾斜可单独控制元件，从辐射束产生图案化辐射束；将图案化辐射束朝向衬底投影；在扫描方向上跨图案化辐射束扫描衬底，以使衬底曝光于...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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