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本发明公开了一种气体水平流动的外延生长设备，包括反应室，还包括用于往反应室上层通入隔离气体的上层进气装置、以及用于往反应室下层通入工艺气体和载气的下层进气装置。本发明具有结构简单、可靠，有利于降低反应室壁副反应物沉积对工艺的影响，有效提高工...
该专利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第四十八研究所授权不得商用。

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