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本公开涉及一种氮化镓衬底的处理方法。氮化镓衬底的处理方法，包括以下步骤：提供氮化镓衬底；对氮化镓衬底的表面进行研磨，研磨后，氮化镓衬底的表面形成有具有应力的损伤层；去除氮化镓衬底表面的损伤层；对去除部分损伤层后的氮化镓衬底进行化学机械抛光。...
该专利属于镓特半导体科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过镓特半导体科技（上海）有限公司授权不得商用。

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