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本发明提供了一种改善薄膜颗粒度装置及其气体输送方法，涉及半导体沉积设备的技术领域，包括反应主体和气体喷头；反应主体内设置有反应腔室，气体喷头上设置有第一进气通道和第二进气通道，第一气体能够进行沉积反应，也可以利用第一气体对反应腔室内清洁；第...
该专利属于拓荆科技(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技(北京)有限公司授权不得商用。

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