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本发明公开了一种太阳光谱吸收涂层的制备方法及涂层，包括：在溅射设备中安装好靶材、衬底以及两者之间的防护屏，将溅射设备的真空度和温度调节到目标值，引入惰性气体，产生等离子体；引入氧气/氮气与惰性气体的混合气流，移除防护屏，在衬底上进行纯合金沉...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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