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本实用新型公开一种铜蚀刻液刻蚀用温度控制装置，包括蚀刻槽，所述蚀刻槽内侧开设有若干个产品放置槽，所述蚀刻槽底部固定连接有出液结构，所述蚀刻槽表面开设有滑槽，所述滑槽内部滑动安装有滑块，所述蚀刻槽一侧固定安装有驱动结构，所述驱动结构包括固定安...
该专利属于四川和晟达电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川和晟达电子科技有限公司授权不得商用。

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