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本实用新型公开了一种便于清洗的铜蚀刻液反应池,属于铜蚀刻液技术领域,包括池体、底部空槽和刷板,所述池体下端一侧成型有空腔,位于所述空腔一侧的所述池体下端成型有所述底部空槽,所述底部空槽内设置有底部密封塞,位于所述底部密封塞外围的所述池体底部...该专利属于四川和晟达电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过四川和晟达电子科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种便于清洗的铜蚀刻液反应池,属于铜蚀刻液技术领域,包括池体、底部空槽和刷板,所述池体下端一侧成型有空腔,位于所述空腔一侧的所述池体下端成型有所述底部空槽,所述底部空槽内设置有底部密封塞,位于所述底部密封塞外围的所述池体底部...