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本实用新型公开了一种便于清洗的铜蚀刻液反应池，属于铜蚀刻液技术领域，包括池体、底部空槽和刷板，所述池体下端一侧成型有空腔，位于所述空腔一侧的所述池体下端成型有所述底部空槽，所述底部空槽内设置有底部密封塞，位于所述底部密封塞外围的所述池体底部...
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